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日美高技术专利战产生的背景
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近年来，日美之间的贸易摩擦日益加剧，美国同日本的贸易逆差每年达数百亿美元。为缩小同日本的贸易逆差，美国采取了一系列贸易保护措施，同时向日本施加压力，要求其开放市场，但收效甚微，与日本的贸易逆差仍然居高不下，每年达五六百亿美元之多。于是，基于以下几方面的考虑，美国人把目光转到了高技术领域及其专利方面：

第一，与日本相比，美国在高技术领域有较明显的优势，特别是许多高技术的基本专利都掌握在美国人手里，因而在高技术专利战中美国无疑处于非常有利的地位。

应当指出，许多高技术的基本专利，事实上是美国人利用专利的垄断性在数年甚至十几年前就设下的埋伏，只不过那时的日本在高技术领域中还未成为美国的竞争对手，尽管当时就存在侵犯专利权的行为，美国也未予以深究。但进入20世纪80年代后，美国在高技术领域的霸主地位受到日本日益强大的挑战。在这种情况下，美国人希望借助专利攻势，遏制日本的咄咄逼人之势。

第二，美国同日本每年数百亿美元的贸易逆差中，高技术产品特别是半导体产品的贸易逆差占有相当大的比重，达200亿美元以上。因此，美国利用其在高技术领域专利方面的优势，以专利战为手段，遏制日本高技术产品的进口，达到减少直至消除贸易逆差的最终目的。

第三，高技术的研究开发投资大、成本高，而且具有很大的风险，然而一旦开发成功则获利很大。这就决定了高技术专利的许可使用费高，因高技术专利被侵权而取得的赔偿金也大，动辄数百万元，有的甚至高达数亿美元。这样，美国人借助专利战，取得高额的专利使用费或赔偿金，以平衡其巨大的贸易逆差。

由此看来，美国同日本贸易逆差的存在，是日美爆发高技术专利战的重要根源，并且只要这种逆差还存在，El美高技术专利战就将继续进行下去，甚至有可能进～步激化。


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