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集成电路布图设计专有权

1958年9月12日，这是一个伟大时刻的开始，美国德州仪器公司工程师杰克·基尔比发明了世界上第一个集成电路(IC)。这个装置揭开了人类20世纪电子革命的序幕，2000年他因此获得了诺贝尔物理学奖。

科技总是在一个个梦想的驱动下前进。基尔比利用多数同事放假无人打扰的两周思考难题。就在贝尔实验室庆祝发明电晶体十周年后一个月，基尔比灵光涌现，提出利用单独一片矽作出完整的电路，如此可把电路缩到极小。自此，集成电路逐步把我们带入了美妙无比的数字信息时代。

1979年：Intel公司推出5兆赫兹（运算速度每秒500万次）8088微处理器，IBM公司推出全球第一台个人电脑（PC）。

1988年：16兆DRAM内存问世，1平方厘米大小的硅片上可以集成有3500万个晶体管，标志着进入超大规模集成电路阶段。

1999年：奔腾III电脑问世，运算速度达到450兆赫兹（即每秒4.5亿次），先后采用0.25微米、0.18微米工艺，1微米即一百万分之一米。

2009年：Intel公司酷睿1系列全新推出，采用了32纳米工艺。纳米，也称毫微米，即十亿分之一米、一百万分之一毫米，如同毫米、厘米、分米和米一样是长度的度量单位，其大小相当于原子的4倍，比单个细菌的长度还要小。

2012年，英特尔计划在美国俄勒冈、亚利桑那和爱尔兰的工厂中部署14纳米芯片生产线，还开展了7纳米和5纳米的芯片研发；韩国三星也由20纳米向15纳米进军，成为芯片一霸；台湾的台积电也开始20纳米芯片批量生产。

现在，人类的电脑、手机、互联网、电视、照相机、DVD及所有电子产品、高端设备的核心控制部件即所谓的芯片，都离不开集成电路。其不断完善进步的技术，各领风骚的功能，主要依赖于集成电路布图设计。它与专利权、著作权等一样，属于知识产权。

集成电路布图设计是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互联线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。通俗地说，它就是确定用以制造集成电路的电子元件在一个传导材料中的几何图形排列和连接的布局设计。

集成电路布图设计实质上是一种图形设计，但它并非是工业品外观设计，不能适用专利法保护。因为，从专利法的保护对象来看，针对产品、方法或其改进所提出的新的技术方案要求具有创造性、新颖性和实用性。这一点对集成电路布图设计而言往往难以做到。从专利的取得程序来看，专利申请审批的时间过长，成本较高，不利于技术的推广和应用。集成电路布图设计虽然在形态上是一种图形设计，但它既不是一定思想的表达形式，也不具备艺术性，因而不在作品之列，不能采用著作权法加以保护。而且集成电路布图设计更新换代较快，若用著作权法来保护布图设计，则会因著作权的保护期过长而不利于集成电路事业的发展。由于现有专利法、著作权法对集成电路布图设计无法给予有效的保护，世界许多国家就通过单行立法，确认布图设计的专有权，即给予知识产权保护。美国是最先对布图设计进行立法保护的国家，随后，日本、瑞典、英国、德国等国也相继制定了自己的布图设计保护法。

1989年5月，世界知识产权组织通过了《关于集成电路的知识产权条约》。此外，《知识产权协定》专节规定了集成电路布图设计问题，其缔约方按照上述公约的有关规定对布图设计提供保护。

我国的《集成电路布图设计保护条例》（以下简称《条例》）、《集成电路布图设计保护条例实施细则》自2001年10月1日起施行。主要内容简介如下：

一、集成电路布图设计专有权的取得

1.集成电路布图设计权的主体。

《条例》第三条规定，中国自然人、法人或者其他组织创作的布图设计，依照本条例享有布图设计权；外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计权；外国人创作的布图设计，其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或共同参加国际条约的，依照本条例享有布图设计权。

2.客体条件。

《条例》第四条规定，受保护的布图设计应当具有独创性，即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。对集成电路的定义仅限于芯片（IC芯片）的布图设计。电路板（PCB板）设计不属于《条例》保护的范围。

3.获得集成电路布图设计专有权的方式和程序。

目前，世界各国主要采取三种取得方式：自然取得，登记取得，使用与登记取得。大多数国家采取登记取得制，我国也采取登记制度。

集成电路布图设计专有权经国家知识产权局登记产生。取得的程序：

（1）申请：向国家知识产权局提交申请文件。

（2）初审。

（3）登记并公告。

（4）对驳回申请的复审。

（5）登记的撤销。申请人办理集成电路布图设计登记时必须提交的文件：

①集成电路布图设计登记申请表一份（相关表格可登录国家知识产权局网站下载）。

②图样一份。

③图样的目录一份。

可能需要提交的文件：

①布图设计在申请日之前已投入商业利用的，申请登记时应当提交4件样品。

②申请人委托代理机构的，还应提交集成电路布图设计登记代理委托书。此外，申请人还可以提交包含该布图设计图样电子件的光盘。

二、集成电路布图设计专有权的内容及其行使

1.集成电路布图设计专有权的内容。

《条例》第七条：布图设计权利人享有下列专有权：

（1）对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分进行复制。

（2）将受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品投入商业利用。

2.布图设计权的行使。

布图设计权利人可以将其专有权转让或者许可他人使用。转让布图设计权的，当事人应当订立书面合同，并向国务院知识产权部门登记并公告。许可使用的当事人应当订立书面合同。

三、集成电路布图设计权的保护

布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生。未经登记的布图设计不受《条例》保护。

1.保护期限。

布图设计权的保护期限为10年，自布图设计登记申请之日或在世界任何地方首次投入商业使用之日计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受到保护。

2.侵权行为。

《条例》第三十条：除本条例另有规定的外，未经布图设计权利人许可，有下列行为之一的，行为人必须立即停止侵权行为，并承担赔偿责任：

（1）复制受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分的。

（2）为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的。

3.侵犯布图设计专有权的赔偿。

为侵权人所获得的利益或者被侵权人所受到的损失，包括被侵权人为制止侵权行为所支付的合理开支。

2014年9月23日，上海市高级人民法院就上海首例集成电路布图设计纠纷案作出终审判决，驳回上诉人钜泉光电科技（上海）股份有限公司、深圳市锐能微科技有限公司的上诉请求，维持原判。根据原判，锐能公司应立即停止侵害钜泉公司享有的ATT7021AU集成电路布图设计专有权，并赔偿钜泉公司经济损失320万元。

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